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光模块中DML与 EML调制方式的核心区别

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光模块中DML与 EML调制方式的核心区别
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以下是光模块DML(直接调制激光器) 与  EML(外调激光器) 调制方式的核心区别解析,结合技术原理、性能参数及应用场景进行对比:


一、调制原理差异
类型工作原理核心特征
DML
直接改变激光器注入电流控制光强:
- 高电平电流:激光器发光
- 低电平电流:激光器关闭
单芯片集成,电路简单,成本低
EML
激光器恒流发光,通过电吸收调制器(EAM) 控制光通断:
- 高电平:EAM吸收光,输出弱
- 低电平:EAM透光,输出强
激光器与调制器分离,信号稳定性高

关键区别:DML调制时激光器处于动态不稳定状态,而EML的激光器始终稳定发光 。


二、性能参数对比
参数DMLEML
传输距离≤10km(受色散限制)40km+(长距优势显著)
调制速率适合≤100Gbps场景支持200G/400G/800G高速率
功耗低(典型值1–3W)较高(集成EAM增加功耗)
信号质量存在频率啁啾(Chirp),色散敏感低啁啾,抗色散能力强
成本低(结构简单)高(芯片工艺复杂)


三、应用场景选择
场景推荐技术原因
短距数据中心
(≤300m,10G-100G)
DML成本敏感,低功耗需求(如SFP+模块)
长距电信传输
(40km+,100G+)
EML需克服色散,保障高速信号完整性(如城域网骨干)
中高速分场景
(如200G DR4)
两者均可DML方案降低成本(例:200G DR4模块)

特殊趋势:PAM4技术推动DML向200G发展,但800G以上仍以EML为主 。


四、行业技术演进

  • DML突破:通过优化材料与封装(如TO同轴/蝶形结构),提升高频响应能力,逐步拓展至中距离场景 。
  • EML升级:集成波长调谐功能,支持DWDM系统,满足超高速波分复用需求 。

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